为了进行化学抛光，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。一阶段是化学抛光时金属表面现象的几何凸凹的整平，去除较粗糙的表面不平度，获得平均为数微米到数十微米的光洁度；第二阶段是晶界附近的结晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相当于光波长的范围。可将阶段称为宏观抛光或平滑化，把第二阶段称为微观抛光或光泽化。
化学抛光
化学抛光是金属制品表面在特定条件下化学侵蚀的过程。金属表面上微观的凸起处在特定溶液中的溶解速度比微观凹下处的大得多。结果逐渐被整平而获得平滑、光亮的表面。根据基体材料的不同，化学抛光液的配制以及具体的操作工艺也不相同，应该视情况而定。表2.5是不同基体材料的化学抛光工艺。
化学抛光依靠化学浸蚀作用,对金属制品在特定的条件下进行抛光叫化学抛光。金属表面微观凸起处在特定溶液中的溶解速度比微观下凹处大得多,这样,便逐步整平而获得平滑、光亮的基体表面。化学抛光可以用于仪器制造、铝质反光镜的制造以及其他零件或镀层的装饰性加工。
化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。化学抛光设备简单，能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件，生产。化学抛光可作为电镀预处理工序，也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。
为了进行化学抛光，必须使零件表面的凸部比凹部优先溶解，因此应将化学抛光的作用分为两个阶段来认识。
半导体材料的化学抛光，如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后，还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、硫酸混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。
化学抛光比较适用于SUS304和SUS316不锈钢的抛光处理，适用于批量大的精密零部件，可以快速去除表面毛刺、杂质，批峰，使不锈钢表面平整，光亮，持久如新。但对于SUS400系列的不锈钢表面抛光处理，建议选用森源不锈钢电解抛光加工工艺处理，成本低，抛光效果好。同时还能提高不锈钢表面的耐腐蚀性能。不锈钢化学抛光厂
化学抛光效果一般要比电解抛光效果差，在化学抛光中，由于材料的质量不均匀，会引起局部电位高低不一，产生局部阴阳极区，形成局部短路的微电池，使阳极发生局部溶解。而在电解抛光中由于外加电位的作用可以完全消除这种局部的阴极区，进行的电解，因此效果更好。
以上信息由专业从事不锈钢化学抛光厂的棫楦不锈钢表面处理于2024/4/19 6:36:46发布
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