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pvd真空镀膜厂行业专家在线为您服务 东莞市泰坦金属制品

来源:泰坦金属 更新时间:2020-10-21 15:16:03

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什么是真空镀膜工艺

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。

真空镀膜

在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜厂家 真空镀膜加工镀铝怎样镀厚

由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄,因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度,常用的检测方法如下:

①电阻法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量,根据欧姆定律: R=pXL/S 单位面积镀铝薄膜的电阻值越小,其镀铝层的厚度越厚,反之则越薄。

电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示,单位是Q,数值越大说明镀铝层厚度越薄,一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0~2.5Q。

真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

真空镀膜中用到的离子源种类较多。主要有:高频离子源,弧放电离子源,kaufman离子源,射频离子源,霍尔离子源,冷阴极离子源,电子回旋离子源,阳极层离子源,感应耦合离子源可能还有很多其它类型离子源未被提到。

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东莞市泰坦金属制品有限公司
主营:真空镀膜,真空电镀,五金电镀,pvd镀膜等

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