什么是真空镀膜工艺
一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。
真空镀膜
在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空镀膜厂家 真空镀膜加工镀铝怎样镀厚
由于真空镀铝薄膜上的镀铝层非常薄,因此不能用常规的测厚仪器检测其厚度,常用的检测方法如下:
①电阻法。电阻法是利用欧姆定律来对镀铝层的厚度进行测量,根据欧姆定律: R=pXL/S 单位面积镀铝薄膜的电阻值越小,其镀铝层的厚度越厚,反之则越薄。
电阻法检测镀铝层的厚度用表面电阻来表示,单位是Q,数值越大说明镀铝层厚度越薄,一般真空镀铝薄膜的表面电阻值为1.0~2.5Q。
真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜中用到的离子源种类较多。主要有:高频离子源,弧放电离子源,kaufman离子源,射频离子源,霍尔离子源,冷阴极离子源,电子回旋离子源,阳极层离子源,感应耦合离子源可能还有很多其它类型离子源未被提到。
以上信息由专业从事pvd真空镀膜厂的泰坦金属于2020/10/21 15:16:03发布
转载请注明来源:http://dongguan.mf1288.com/taitan88-1001944808.html