由于Parylene涂层材料是在真空下沉积而成,是裂解的分子重新聚合形成的防护材料,属分子级的生长,生成的涂层致密稳定、摩擦系数小,且随着涂层生长厚度的增加,摩擦系数减小。在厚度为0.5μm时,摩擦系数仅相当于硅涂覆层的一半,厚度为2μm时的摩擦系数,仅相当于0.5μm厚涂层摩擦系数的1 /4。
Parylene 材料有良好的物理和机械性能,其和常用涂层的物理和机械性能比较如表 1 所示,从表中可以看出,其抗拉强度、线膨胀系数、硬度数值等参数相对稳定,变化范围小,摩擦系数较小。
派瑞林(Parylene)可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能,可以克服普通环氧树脂喷涂等其他涂层工艺处理后不耐磨,不耐酸碱等方面的严重缺陷。其工艺特点:派瑞林(Parylene)涂层物料经蒸发室汽化后进入裂解室后裂解为气体,气体进入沉积室,通过沉积室,即物体表面均匀包覆所述派瑞林层。派瑞林(Parylene)真空气相沉积工艺和磁体覆膜工艺,降低磁体表面的氧化能力,提高磁体的抗蚀性,相比电镀磁体工艺,该镀膜工艺使磁通损失率降低至现有覆膜工艺的50%,且降低了毛坯生产的成本。从而降低企业生产成本,提高产品性能。考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体,让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强,离子能量带宽集中,可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极(往往是钨丝)在反应气体中很快就烧掉了,另外就是离子流量有极限,对需要大离子流量的用户可能不适和。
霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强,霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝(阴极)。
以上信息由专业从事镀膜涂层的菱威纳米于2024/5/3 8:24:36发布
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