磁场产生:在磁控溅射镀膜设备中,存在一个由电源产生的磁场。这个磁场用于控制电子的运动轨迹。
电子运动:在磁场的作用下,电子围绕靶材表面运动,并且在运动过程中会与靶材表面的原子发生碰撞。这种碰撞使得靶材表面的原子被激发并从表面飞出。
E×B漂移:在电场和磁场的共同作用下,产生的二次电子会产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移。其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动。
物理性能提升:镀膜设备能够在高真空环境下,通过物理或化学方法将特定材料(如金属、氧化物、氮化物等)均匀地沉积在待镀膜物体的表面,从而改变物体表面的物理性能。这种表面改性技术能够显著提升材料的硬度、耐磨性、耐腐蚀性、电导率等,从而扩大材料的应用范围和使用寿命。
化学性能改善:镀膜还可以改善材料表面的化学性能,如提高化性、抗腐蚀性等,从而保护基材不受外界环境的侵蚀。
以上信息由专业从事H850派瑞林镀膜设备公司的拉奇纳米镀膜于2024/7/26 9:55:49发布
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