PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念：
1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。第二代的抗磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。
但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
2.化学组分上的均匀性：
就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
3.晶格有序度的均匀性：
这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
IP硬膜：颜色为不锈钢色厚度可达3-6um，硬度达1000HV以上耐磨损，不易刮花DLC膜层：颜色有灰色、黑色 厚度1-3um低摩擦系数，耐磨损，不易刮花AFP膜系：防指纹效果显著，膜层透明，不改变底色厚度为10～200纳米技术成熟，可应用于任何表面
功能膜层 硬质功能膜广泛用于手机外观件、刀具、钻嘴、模具、工具、燃气轮机叶片，可镀CrN、TiAlCN、TiCN、TiAlN等膜层。
减反射镀膜意义重大,大幅提升用户体验:现阶段几乎所有手机、平板电脑屏幕在阳光下的可视效果都非常差,主要是表面盖板玻璃(主要成分为SiO2和Al2O3)折射率较高,超过1.5,即使是好的面板反射率仍有5%。想要提高可见度,有两种方法,一是提高屏幕亮度,二是降低屏幕反射;但前者会增加耗电量,进一步缩短本已不长的智能终端待机时间。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。所以在改变玻璃表面采用减反射技术意义重大,可降低电子产品在室内外的反射光,减少电量消耗,大幅提升用户体验。
以上信息由专业从事气相沉积加工报价的拉奇纳米镀膜于2024/6/29 7:02:27发布
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