真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。
光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
在真空镀膜加工中环保的说明
五、真空电镀加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在HV300-600，高的甚至可达到HV700以上，而电镀镍的硬度仅为 HV160-180，显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后，其硬度还可以提高，可达HV900以上。
六、自润滑性好 经合金镀液处理过的金属表面是一种非晶态，即处于基本平面状态，有自润滑性，因此摩擦 系数小，非粘着性好。
真空镀膜技术是在真空条件下采用物理或化学方法，使物体表面获得所需的涂层，目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域。真空镀膜技术也是PVD涂层的常用制备方法，如真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法（PVD），是基本的涂层制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以真空技术是涂层制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。
真空镀膜工艺流程注意事项：
1、需要加工的零部件表面状态，这包括产品是否存在缺陷，表面状态，表面污染物等。
2、表面缺陷的存在会导致外观件较终美观度。当然对于微小缺陷的存在，喷涂工艺可以掩盖。但是在注塑或者冲压成型过程中造成的批量瑕疵品必须在进货检验前剔出。
3、表面状态，这涉及是否是透明件，表面特殊粗糙度设计。设计外观状态要求的，必须在工艺制定前考虑整体工艺路线，否则完成后难以得到预想的外观效果。
4、表面污染物，对于批量产品，如何去除前段工序残留的污染物是关系质量与效率的关键。5、夹具的设计，这包括夹具是否适应全部工艺流程，是否能保证表面均匀性，装夹效率。
以上信息由专业从事环保Parylene的拉奇纳米镀膜于2024/5/10 9:56:26发布
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