真空镀膜是真空应用领域的一个突破性技术,利用物理或者化学方法并吸收一系列新技术而成的工艺,目的就是为了在实际生产中为产品创造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。
为什么需要进行真空镀膜呢?这项工艺已经成为了电子元器件制造中的一项不可或缺的技术,主要是为了使产品表面具有耐磨损耐高温,耐腐蚀等优于产品本身的性能,从而提高产品的质量,延长加工产品的使用寿命,不仅如此,还可以节约能源,获得更为显著的技术经济效益。真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。
实际应用中,我们往往会根据产品的性质来决定选用哪种真空镀膜工艺。磁控溅射镀主要用于金属产品,蒸发镀主要用于塑胶产品,光学离子镀主要用于璃玻产品。可渗透至电子元件的各个细微的空隙处,达到完整的覆盖性与包包裹性,让产品得到立体的防水效果。真空电镀为磁控溅射镀,以电镀不锈钢产品材质为主,可以电镀金色、玫瑰金色、黑色、枪色、蓝色等颜色,质量稳定,品质保障。
电子书的显示屏与边框公差较大,缝隙看起来不美观,利用填充剂材料可以消除缝隙使外观更精致;电子书生产商对于工艺要求很高,成品要达到6级以上的防水,防潮,耐腐蚀等性能
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