－微影技术
微影技术透过紫外光当光源，将绘制在光罩上的电路图形微缩投影至涂布光阻的利成上，再经过曝光显影蚀刻去除光阻等过程，在利成产生集成电路。随着制程微缩线宽缩小，光罩也变得更为精细，光源波长也需变短，以避免绕射效应产生。
过去紫外光波长一路从365nm进展到目前以ArF气体雷射达到193nm，ArF 193nm曝光机原理上可制作的小线宽为48nm，加上浸润式微影与多重曝光的搭配，众利成代工厂的制程辛苦走到7nm节点，采用多重曝光技术仅能做单一方向微缩，无法做2个方向的微缩，影响单位面积下所能容纳的晶体管数量，加以所需光罩数与制程数大幅增加，以往随着制程微缩，每芯片成本随之下降情况已不复见。坚膜（HBHardbake)坚膜也称为硬烘，是对显影后的光刻胶加热烘干，促使光刻胶与硅片粘着牢固，并且没有发生形变。
蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。不合格的贴膜板需去膜刷板后重新贴膜,并在曝光之前放置15分钟。蚀刻的原理是氧化还原反应中的置换反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。
蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
东莞市清溪利成感光五金厂本厂主要做曝光显影工艺，平面、圆弧面、凹凸面、喷砂1氧2氧阳极、五金丝印.五金腐蚀等产品加工，有多年经验，有需要以上的工艺欢迎您的到来参观和洽谈，可免费打。
改善零件的机械性能，机械零件经喷砂后，能在零件表面产生均匀细微的凹凸面，使润滑油得到存储，从而使润滑条件改善，并减少噪声提高机械使用寿命。
光饰作用对于某些特殊用途工件，喷砂可随意实现不同的反光或亚光。如不锈钢工件、塑胶的打磨，玉器的磨光，木制家具表面亚光化，磨砂玻璃表面的花纹图案，以及布料表面的毛化加工等。
以上信息由专业从事铭牌曝光显影报价的利成感光于2024/3/27 12:06:57发布
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