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1、曝光要适度。这样才能达到线条清晰平直,保证图形电镀的合格率及其基板的电性能和其它工艺要求。
2、干膜尽可能平整且厚度均匀。要求干膜应具有很好的柔韧性、良好的塑性、流动性与粘结性以确保达到无间隙贴膜。
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曝光显影原理 譬如说做PCB板,需要用到蚀刻。大家看我这样的理解对不对,喷涂---曝光---显影---固化---蚀刻 喷的感光油墨,在曝光时候,用非林片把不用蚀刻的地方遮蔽起来,曝光:经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。保温杯曝光显影厂
以上信息由专业从事保温杯曝光显影厂的利成感光于2022/1/27 6:20:26发布
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